利用シーン・薄膜厚み測定３「半導体ウエハのSiN膜厚測定」LuxFlux

【測定】業界：半導体／対象：ウエハ

膜付けしたウエハの膜厚を非接触で測定した例です。

平均厚さ136nmのSiN(シリコン窒化)膜の厚みを測定しています。

フィットベースの薄膜測定フィルタを用いることによりウエハ全体の厚みのばらつき4nmと、より小さな厚みの変化を捉えています。

キヤノンITソリューションズ株式会社

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